MOCVD Susceptor للنمو الفوقي

يعتبر MOCVD Susceptor for Epitaxial Growth من شركة Semicera، وهو حل رائد مصمم لتحسين عملية النمو الفوقي لتطبيقات أشباه الموصلات المتقدمة. يضمن MOCVD Susceptor من Semicera التحكم الدقيق في درجة الحرارة وترسيب المواد، مما يجعله الخيار الأمثل لتحقيق Si Epitaxy وSiC Epitaxy عالي الجودة. يتيح هيكلها القوي وموصليتها الحرارية العالية أداءً متسقًا في البيئات الصعبة، مما يضمن الموثوقية المطلوبة لأنظمة النمو الفوقي.

يتوافق MOCVD Susceptor مع العديد من التطبيقات الفوقية، بما في ذلك إنتاج السيليكون أحادي البلورية ونمو GaN على SiC Epitaxy، مما يجعله مكونًا أساسيًا للمصنعين الذين يبحثون عن نتائج من الدرجة الأولى. بالإضافة إلى ذلك، فهو يعمل بسلاسة مع أنظمة PSS Etching Carrier وICP Etching Carrier وRTP، مما يعزز كفاءة العملية والإنتاجية. يعتبر المستقبِل مناسبًا أيضًا لتطبيقات LED Epitaxial Susceptor وغيرها من عمليات تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة.

بفضل تصميمه متعدد الاستخدامات، يمكن تكييف جهاز MOCVD الخاص بشركة Semicera للاستخدام في أجهزة Pancake Susceptors وBarrel Susceptors، مما يوفر المرونة في إعدادات الإنتاج المختلفة. يؤدي دمج الأجزاء الكهروضوئية إلى توسيع نطاق تطبيقها، مما يجعلها مثالية لكل من صناعات أشباه الموصلات والطاقة الشمسية. يوفر هذا الحل عالي الأداء ثباتًا حراريًا ومتانة ممتازين، مما يضمن كفاءة طويلة المدى في عمليات النمو الفوقي.